氮化硅干法刻蚀工艺设备模型的试验与测量_
李煜,李瑞伟,纪民-《微电子学》-2005-被引量:3[####]摘 要: 通过对氮化硅薄膜干法刻蚀工艺实验结果的测量,得到硅片表面非均匀性分布的具体测量数据,并对这种现象的成因进行了定性的理论分析,为下一步建立刻蚀工艺设备模...[/####] 设备氮化硅轴承_设备氮化硅轴承价格_设备氮化硅轴承批..._
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2018年8月2日-陶瓷脱水面板专用生产设备3组,激光测绘设备一套,大型...有关【氮化硅陶瓷面板】的信息/图片/参数由阿土伯...
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PECVD系统原理图结构 PECVD氮化硅覆膜制造 PECVD设备加工,专业技能培训,这里云集了众多的供应商,采购商,制造商。这是PECVD系统原理图结构 PECVD氮化硅覆膜...
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褐铁选矿设备 氮化硅生产设备 词筛选设备,破碎机,这里云集了众多的供应商,采购商,制造商。这是褐铁...
HOPE燃烧器,横井燃烧器,氮化硅保护管,昆山特丰机电设备有限公司
昆山特丰机电设备有限公司是专业致力于热能产品--HOPE燃烧器的研究和推广,是一家集产品销售,项目改造及技术...
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氮化硅立式炉硬件改造提升颗粒表现_
彭新华,潘昭海,江冰松-《设备管理与维修》-2017[####]摘 要: 氮化硅工艺的特点以及立式炉各个系统的工作原理。分析氮化硅立式炉颗粒频繁超标的问题,通过设备改造来提升机台颗粒表现,同时总结了近几年的设备使用以及维护...[/####] 【】形成高质量低温氮化硅层的方法和设备_
A··陈,E·A·C·桑切斯,S·-CN[####]形成高质量低温氮化硅层的方法和设备CNdoi:CN BA··陈E·A·C·桑切斯S·...[/####] 氮化硅反应烧结设备PLC自动控制_
李爱平,周文君,高汶栋-《中国陶瓷》-1996-被引量:1[####]本文通过对氮化硅反应烧结设备的可编程控制,说明可编程控制技术是材料学科的一个重要应用方向。[/####] 低压燃烧合成氮化硅或氮化硅铁的方法及设备-有机硅氟资讯2003年12...
低压燃烧合成氮化硅或氨化硅铁的方法及设备。本发明涉及无机非金属材料的制备方法。本发明以硅粉或硅铁粉为原料,加入稀释剂氮化硅或氨化硅铁细粉制成配合料,在立式...
一文看懂氮化硅陶瓷_社会_网
2018年4月26日-1. 产品性质 1)组成和结构 氮化硅分子式为Si3N4,属于共价键结合的化合物,氮化硅陶瓷属多晶材料,晶体结构属六方晶系,一般分为α、β两种晶向,均...
【】形成高质量的低温氮化硅膜的方法和设备_
A·陈,E·A·C·桑柴兹,S·-2009-被引量:1[####]本发明提供一种形成氮化硅膜的方法。根据本发明,通过对含硅/氮源气体或者含硅源气体和含氮源气体进行热分解来在低沉积温度(例如小于550℃)下沉积氮化硅膜,以形成氮化硅膜...[/####] PECVD氮化硅技术_
陈永兴,许春芳-《微电子学与计算机》-1986-被引量:3[####]该设备由华东师范大学、上海元件陈永兴华东师范大学许春芳华东师范大学电子系《微电子学与计算机》陈永兴,许春芳.PECVD氮化硅技术[J]. 微电子学与计算机.1986(...[/####] 机械氮化硅_机械氮化硅价格_优质机械氮化硅批发/采购 -
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提高LPCVD和PECVD设备淀积的氮化硅应力膜应力大小的方式_
2016年3月11日-◆LPCVD 设备淀积的氮化硅膜为张应力,设备可调节的量包括:淀积 时的温度、淀积时的压强、气体量(总的反应气体量和反应气体组分 比例) 。 ? 来自国外的...
高性能AlGaN/GaN HEMT与AIN /氮化硅钝化_
谭鑫,吕元杰,顾国栋-《Journal of Semiconductors》-2015[####]直流特性表明,在氮化铝/氮化硅钝化设备很小的氮化硅钝化的设备相比高温漏电流和跨导降解温度依赖性,表明AlN钝化实验提高了AlGaN/GaN HEMT高温作业。谭鑫吕元杰...[/####] 氮化硅
氮化硅,八方资源网云集了众多的供应商,采购商,制造商。这是供应 氮化硅 的详细页面。氮化硅产品性能参数: 氮化硅陶瓷粉末由于具有良好的力学性能、化学稳定性、低...
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氮化硅生产设备 - 矿山设备厂家 价格
[1-BG32421] 低压燃烧合成氮化硅或氮化硅铁的方法及设备 [技术摘要]低压燃烧合成氮化硅或氮化硅铁的方法...
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世邦工业 使用寿命长 生产氮化硅设备 生产氧化钙设备,粉碎机,这里云集了众多的供应商,采购商,制造商...
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